由于鈦陽極在使用過程中，陽極反應會產生氧氣，因此氧氣的產生會形成陰陽極之間的屏蔽效應，并對放電均勻性造成一定的影響。氧氣更多是影響于垂直電鍍線上，這主要是由于產生的氧氣氣泡會上浮，導致陽極上部和下部累積的氧氣氣泡量形成了一定的梯度，從而造成屏蔽效果，也呈現了一定的梯度效應。
要平衡氧氣氣泡的屏蔽作用對電鍍均勻性的影響，一方面可以改變陽極的設計方式，采用水平式電鍍的方式，這樣就可以從根本上避免氣泡上浮造成的陽極各部分屏蔽作用的差異（水平式電鍍的設備結構會比垂直式更為復雜，同時也并不是所有產品都適應水平式的電鍍方式）；另一方面，在垂直電鍍線上，可以通過改變陽極導電性設計，以及安裝陽極屏蔽板等多種方式來對沖其影響，從而改善由氧氣氣泡帶來的負面影響。
總而言之，氣泡的屏蔽效應是設備設計中一個不能忽視的因素，尤其是對于垂直電鍍線，設備廠商可以針對這個影響因素做出相應的考慮，特別是如果今后對于電鍍均勻性提出更高要求，任何影響電鍍均勻性的因素應當都需要納入考慮范圍。
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